9月1日ASML官宣新一代High NA EUV光刻机迈入规模化商用量产，全球四家头部芯片企业已部署10台并投入常态化量产，另有3台在出货调试，累计晶圆曝光达135万片。该设备为2nm及以下先进制程打通关键堵点，支撑AI芯片持续演进。